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EDS(能量色散X-射線光譜)
EDS（能量色散X-射線光譜）是一種可以與SEM（掃描電子顯微鏡），TEM（透射電子顯微鏡）和STEM（掃描透射電子顯微鏡）配合使用的分析技術。
當EDS和這些影像工具結合到一起時，可以提供直徑小至nm的區域進行元素分析。電子束對樣品的撞擊會產生樣品元素的特性X-射線，EDS分析可用於確定單點的元素成分，或者繪製出成像區域元素的橫向分布。
請點擊此處，瞭解EAG EMview軟體關於SEM、FIB、TEM和STEM的資料處理和顯示。
產業應用
限制條件
- 非平坦、拋光和均勻的樣品半定量
- 對樣品尺寸的限制
- 樣品必須和真空相容（不適合濕式有機材料）
- 分析（和塗層）可能會破壞後續的表面分析
- 對原子量較低的元素有較差的靈敏度
優點
- 快速，“初步”成分分析
- 多功能、便宜，廣泛適用
- 某些樣品定量分析（平坦、拋光和均勻）
分析規格
偵測訊號： 特性X-射線
偵測元素：B-U
偵測限制條件：0.1-1at%
深度解析度：0.5-3μm
影像/mapping：是
橫向解析度/偵測尺寸：大於等於0.3μm
應用範圍
- 小面積成像和元素構成
- 樣品缺陷中的元素鑑別/製圖